ELSCOLAB | GPro500 Wafer
In de procesindustrie worden tanks, reactoren en afgassystemen vaak geïnertiseerd met stikstof om explosierisico’s te beperken. Betrouwbare inline zuurstofmeting is daarbij een kritische vereiste en moet vaak voldoen aan SIL2-eisen. In kleine procesleidingen was dit lange tijd een uitdaging, omdat klassieke TDL-analyzers hiervoor niet geschikt waren. De GPro500 Wafer brengt daar verandering in en maakt betrouwbare TDL-zuurstofmeting mogelijk vanaf DN50.
Conventionele TDL-analyzers werken met een laser en detector aan weerszijden van de leiding, wat installatie en uitlijning complex maakt. De GPro500 combineert beide in één behuizing met slechts één procesaansluiting. Een corner-cube reflector kaatst de laserstraal parallel terug en verdubbelt zo de optische padlengte. Hierdoor vereenvoudigt de installatie en vervallen uitlijnproblemen.
Voor toepassingen die een hogere resolutie vereisen, kan de GPro500 worden uitgerust met de innovatieve Multi-Reflection Tool (MR2/MR3). De laser passeert dan niet twee, maar vier tot zes keer het fysieke pad. De installatie blijft compact terwijl de meetresolutie toeneemt. Een resolutie van 0,1% zuurstof met een responstijd van minder dan twee seconden is mogelijk. Optionele filters en een eenvoudig verwarmbare wafer beschermen de optiek tegen vervuiling en condensatie, waardoor betrouwbare metingen mogelijk blijven in veeleisende procesomstandigheden.
De GPro500 Wafer brengt onderhoudsvrije inline TDL-zuurstofmeting naar kleine procesleidingen waar dit voorheen technisch nauwelijks haalbaar was. Zo combineert de oplossing hoge meetbetrouwbaarheid, compacte installatie en SIL2-compliance voor veiligheidskritische toepassingen.